CP-8000P-국문

2 COXEM CP-8000+ Cross Section Polisher www.coxem.com 3 COXEMCP-8000+ Cross Section Polisher CP-8000+는 아르곤 이온 빔을 이용하여 시료의 단면을 식각하는 장비로, 시료 단면에 구조적 손상과 같은 물리적 변형을 주지 않으며 화학적 공정 또한 필요하지 않아 복잡한 공정 없이 깨끗한 단면 처리가 가능합니다. 또한 수십㎛에서 수mm영역까지 보다 넓은 면적을 가공하여 시료 단면 분석에 용이합니다. ● 시간당 700㎛의 높은 식각률 (Si, 8kV 기준) ● 자주 쓰는 레시피 저장/ 불러오기 기능 탑재 ● Step by step 레시피 자동 실행 기능 ● 샘플 높이 지그와 스마트 샘플 홀더를 이용한 손쉬운 시료 로딩 ● 이온 빔 상태, 식각 상황 실시간 관찰 (챔버 카메라) ● 편리한 스크린플레이 - 직관적인 GUI와 손쉬운 터치스크린 ● 이온 빔 Auto On / Off 기능으로 열 손상 최소화 ● 디지털 현미경을 이용한 빠르고 편한 이온 빔 - 시료 정렬 ● 노이즈, 진동, 오일 프리 다이어프램 펌프 기본 제공 ● 넓은 면적에 대한 평면 식각을 위한 플랫 밀링 기능 기본 제공 FEATURES 이온건에전압이인가되고아르곤가스가주입되면,플라즈마가발생하며가속 전압에의해이온빔이시료에조사되어식각이시작됩니다. 시료를 금속재질의 시편마스크 뒤에 위치하여 이온 빔이 시편마스크와 시료에 동시에 조사될 때, 시편마스크의 쉴딩 효과(Shielding)로 시료의 빔 데미지를 최소화하여깨끗한단면식각결과를얻을수있습니다. PRINCIPLES OF CROSS SECTION POLISHER FIB POLISHING VS CP POLISHING CP-8000+으로 동일한 시료를 단면 식각 할 때, FIB(Focused ion beam)와 비교하여 훨씬 넓은 부위의 단면을 단시간에 식각하여 뛰어난 시간 절약 및 가격 절감 효과를 얻을 수 있습니다. 아래 이미지는 동일 시료를 동일한 시간 동안 각각FIB와CP를 이용하여 식각한 결과입니다. Mechanical Polishing Only CP Polishing FIB Polishing CP Polishing MECHANICAL POLISHING VS CP POLISHING 기계연마장치를사용하여연마하면물리적인손상과오염으로단면의정확한상태를확인하기어려우나, 이온빔을이용한CP로단면가공 을할경우, 구조손상과오염없이시료미세표면구조를관찰할수있습니다.